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          電子氣體

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          產品編號
          所屬分類
          電子氣體
          數量
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          產品描述
          參數

            半導體工業用的氣體統稱電子氣體。按其門類可分為純氣,高純氣和半導體特殊材料氣體三大類。特殊材料氣體主要用于外延,摻雜和蝕刻工藝;高純氣體主要用作稀釋氣和運載氣。電子氣體是發展集成電路、光電子、微電子,特別是超大規模集成電路、液晶顯示器件、半導體發光器件和半導體材料制造過程中不可缺少的基礎性支撐材料。目前有:硅烷、氨氣、四氟化碳、六氟化硫、氯化氫、八氟環丁烷、甲烷、一氧化二氮、三氯化硼、溴化氫、一氧化碳、氖氣、氪氣等。

          硅    烷(SiH4)

            硅烷作為一種提供硅組分的氣體源,可用于制造高純度多晶硅、單晶硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、異質硅、各種金屬硅化物。

            本公司可提供純度為5N~6N,包裝于40~47升鋼瓶內的產品。因其高純度和能實現精細控制,已成為許多其他硅源無法取代的重要特種氣體。硅烷廣泛應用于微電子、光電子工業,用于制造太陽電池、平板顯示器、玻璃和鋼鐵鍍層,并且是迄今世界上唯一的大規模生產粒狀高純度硅的中間產物。硅烷的高科技應用還在不斷出現, 包括用于制造先進陶瓷、復合材料、功能材料、生物材料、高能材料等等,成為許多新技術、新材料、新器件的基礎。

          氖    氣(Ne)

            本公司可提供純度為4N~6N,包裝于4~50升鋼瓶內的產品。用于霓虹燈及作為電子工業的填充介質(例如高壓氖燈、計數管等);用于激光技術,做視發光指示燈、電壓調節,以及激光混合氣成份;氖氧混合氣代替氦氧氣用于呼吸;用作低溫冷卻劑,標準氣、特種混合氣等;用于高能物理研究,讓氖充滿火花室來探測和微粒的行徑。

          氨    氣(NH3)

            超純氨是微電子氮化硅掩蔽膜的主要原材料,本公司可提供純度為3N~5N,包裝于4~47升鋼瓶或臥式儲罐內的產品。雖然NH3在半導體制造用量不大,但在光電子領域、超純氨是十分重要的原材料,NH3的質量好壞直接決定發光二極管(LED)的亮度,它的價格高低左右著LED的經濟性。發光二極管LED是繼愛迪生發明電燈后,人類又一次照明工業的革命,LED是利用超純氨同三甲基鎵(被稱為MO源)反應,生成GaN的半導體。

          六  氟  化  硫(SF6)

            新一代超高壓絕緣介質材料。作為良好的氣體絕緣體,被廣泛用于電子、電氣設備的氣體絕緣。本公司可提供純度為4N~5N,包裝于4~40升鋼瓶內的產品。電子級高純六氟化硫是一種理想的電子蝕刻劑,廣泛應用于微電子技術領域,用作電腦芯片、液晶屏等大型集成電路制造中的等離子刻蝕及清洗劑。在光纖制備中用作生產摻氟玻璃的氟源,在制造低損耗優質單模光纖中用作隔離層的摻雜劑。還可用作氮準分子激光器的摻加氣體。在氣象、環境檢測及其他部門用作示蹤劑、標準氣或配制標準混合氣。在高壓開關中用作滅弧和大容量變壓器絕緣材料。也可用于粒子加速器及避雷器中。

          四  氟  化  碳(CF4)

            本公司可提供純度為5N~6N,包裝于4~47升鋼瓶內的產品。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體,用于低溫制冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體,四氟化碳高純氣及四氟化碳高純氣、高純氧的混合氣,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池生產、激光技術、低溫制冷、泄漏檢驗、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。

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